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產(chǎn)品簡介:MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造,針對掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì),適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品,尤其適合于場發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測應(yīng)用。
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日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造,針對掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì),適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品,尤其適合于場發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測應(yīng)用。
主要特點(diǎn):
1. 操作方便且有記憶功能,LCD觸摸屏控制技術(shù),可存儲五種處理方案;
2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡,從而使鍍層更均勻;
3. 通過選配測量單元可實(shí)現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。
應(yīng)用領(lǐng)域:
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
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